一、120T/H半導體清洗用超純水設(shè)備概述

　　半導體在常溫下是介于導體和絕緣體之間的材料，半導體生產(chǎn)和清洗需要對水有一定要求，電阻率要在16兆歐以上。120T/H半導體清洗用超純水設(shè)備采用先進的制水技術(shù)，可以有效去除原水中的各種雜質(zhì)，出水水質(zhì)可以達到18兆歐以上，完全滿足行業(yè)用水需求。

超純水設(shè)備
 

　　二、120T/H半導體清洗用超純水設(shè)備水質(zhì)標準

　　半導體芯片清洗超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標準。
 

　　三、120T/H半導體清洗用超純水設(shè)備制備工藝

　　1、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)

　　2、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)

　　3、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)
 

半導體清洗用超純水設(shè)備
 

　　四、120T/H半導體清洗用超純水設(shè)備應(yīng)用場合

　　電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗。

　　電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液。

　　顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水。

　　黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水。

　　液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液。

　　晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制。

　　集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片。

　　半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路。

　　以上是120T/H半導體清洗用超純水設(shè)備的簡單介紹。萊特萊德是一家專業(yè)從事南寧水處理設(shè)備的高科技企業(yè)。公司擁有一批長期從事水處理技術(shù)研究、應(yīng)用、實戰(zhàn)經(jīng)驗豐富的工程技術(shù)人員，憑借先進的技術(shù)、高品質(zhì)的設(shè)備、完善的管理、以及遍布全國的銷售服務(wù)網(wǎng)絡(luò)，我公司迅速成為國內(nèi)水處理行業(yè)領(lǐng)先，具競爭力的公司之一。