一、LTLD-QC全程綜合水處理器概述

　　LTLD-QC全程綜合水處理器主要是針對(duì)各種水處理系統(tǒng)一般存在的腐蝕、結(jié)垢、菌藻滋生以及水質(zhì)變壞等問題設(shè)計(jì)的全程綜合水處理器。該設(shè)備的研制取代了多臺(tái)設(shè)備一起工作，使用方便。LTLD-QC全程綜合水處理器一體化設(shè)計(jì)以及純物理處理方法，使得設(shè)備受到各種水處理系統(tǒng)的廣泛使用。

　　二、LTLD-QC全程綜合水處理器技術(shù)參數(shù)

　　工作電源：220V，50HZ。

　　過濾精度：50～3000um。

　　防垢率：>99%。

　　殺菌率： >99%。

　　滅藻率：>98%。

　　腐蝕率：< 0.085毫米/年。

　　壓力損失：<0.01Mpa。

　　三、LTLD-QC全程綜合水處理器工作原理

　　全程綜合水處理器主要由優(yōu)質(zhì)碳鋼簡體、特殊結(jié)構(gòu)的不銹鋼網(wǎng)、高頻電磁場發(fā)生器、電暈場發(fā)生器及排污裝置等組成。通過活性鐵質(zhì)濾膜，機(jī)械變徑孔阻擋及電暈效應(yīng)場三位一體的綜合過濾體，吸附、濃縮在實(shí)際運(yùn)行工況下各種水系統(tǒng)形成的硬度物質(zhì)及復(fù)合垢，降低其濃度，達(dá)到控制污垢及大部分硬度垢的目的。并通過換能器將特定頻率能量轉(zhuǎn)換給被處理的介質(zhì)——水，形成電磁極化水，使其成垢離子間的排列順序位置發(fā)生扭曲變形，當(dāng)水溫升高到一定程度時(shí)，處理后的水需經(jīng)過一段時(shí)間方能恢復(fù)到原來的狀態(tài)。在此階段，成垢的幾率很低，因而達(dá)到控制形成硬度垢的目的。同時(shí)器壁金屬離子收到抑制，對(duì)無垢系統(tǒng)具有防腐蝕作用。此外，電磁極化水還可有效地殺滅水中的菌類、藻類等，有效地抑制水中微生物的繁殖。所以，全程綜合水處理器在系統(tǒng)正常運(yùn)行狀態(tài)下，可以完成防結(jié)垢、防腐、殺菌，滅藻、超凈過濾，控制水質(zhì)的綜合功能。

　　四、LTLD-QC全程綜合水處理器的安裝與使用

　　1、設(shè)備輪廓與旁通或構(gòu)筑物間的距離需大于500mm。

　　2、禁止在無水狀態(tài)下長時(shí)間開啟設(shè)備。

　　3、設(shè)備安裝形式應(yīng)為旁通式安裝，以滿足在不停機(jī)狀態(tài)下檢修設(shè)備及反復(fù)沖洗，復(fù)活濾體的需要。

　　4、多功能水處理器不得安裝在水泵前負(fù)壓區(qū)。

　　LTLD-QC全程綜合水處理器在安裝時(shí)要求設(shè)備的輪廓和旁通或者是建筑物之間的間距在500米以上。在沒有水供給時(shí)切忌讓設(shè)備長期工作。全程綜合水處理器安裝的形式按照旁通式進(jìn)行，從而滿足在設(shè)備開啟時(shí)仍然可以檢修設(shè)備和維護(hù)的需要。